गोल विकिरण स्थायी चुंबकीय चक

गोल चुंबकीय चक का सतह पीसने और रैखिक काटने वाली मशीनों में व्यापक अनुप्रयोग होता है। यह बारीक ध्रुव और मजबूत प्रकार में आता है, जो चुंबकीय बल वितरण को भी सुनिश्चित करता है। यह इसे किसी भी अवशिष्ट चुंबकत्व को छोड़े बिना पतली और छोटी वर्कपीस की मशीनिंग के लिए विशेष रूप से उपयुक्त बनाता है। चुम्बकत्व और विचुम्बकीकरण दोनों प्रक्रियाओं के दौरान कार्य तालिका की सटीकता सुसंगत रहती है। विशेष रूप से उपचारित पैनल यह सुनिश्चित करते हैं कि कोई रिसाव न हो, जबकि इसका संक्षारण प्रतिरोधी डिज़ाइन तरल पदार्थों को काटने से होने वाले नुकसान से बचाता है, जिससे चक की सेवा जीवन बढ़ जाता है।

गोल विकिरण स्थायी चुंबकीय चक में चुंबकीय अंतःक्रिया वाले कई चुंबक होते हैं, जहां समान ध्रुव प्रतिकर्षित करते हैं और विपरीत ध्रुव एक दूसरे को आकर्षित करते हैं। जब चक को लौह सामग्री के करीब लाया जाता है, तो चुंबकीय क्षेत्र के अधीन होने पर सामग्री के परमाणुओं के भीतर कई अयुग्मित इलेक्ट्रॉन स्पिन चुंबकीय क्षण उत्पन्न करते हैं। ये इलेक्ट्रॉन अपना स्वयं का चुंबकीय क्षेत्र बनाते हैं और स्वयं के बाहर भी एक चुंबकीय क्षेत्र उत्पन्न करते हैं। जब सामग्री गोल विकिरण स्थायी चुंबकीय चक के चुंबकीय क्षेत्र से प्रभावित होती है, तो उसका अपना चुंबकीय क्षेत्र चक के चुंबकीय क्षेत्र के साथ संपर्क करता है, जिसके परिणामस्वरूप सामग्री चुंबकीय बल उत्पन्न करती है और चक की ओर आकर्षित होती है।

गोल विकिरण स्थायी चुंबकीय चक के तेजी से घूमने के दौरान, इसके चारों ओर एक बदलता चुंबकीय क्षेत्र उत्पन्न होता है। यह बदलता चुंबकीय क्षेत्र चक के नीचे धातु की प्लेट के भीतर मुक्त इलेक्ट्रॉनों के प्रवाह को प्रेरित करता है, जिससे विद्युत प्रवाह उत्पन्न होता है। चूँकि यह धारा चक के भीतर अपना स्वयं का चुंबकीय क्षेत्र उत्पन्न करती है, यह चक के भीतर चुंबकीय क्षेत्र वितरण को बदल देती है, जिससे चुंबकीय हुक की सोखने की शक्ति बढ़ जाती है।

चक में कई चुंबक शामिल होते हैं जो एक चुंबकीय सर्किट बनाते हैं, एक चुंबकीय प्रवाह स्थापित करते हैं। एक बड़ा चुंबकीय प्रवाह एक मजबूत चुंबकीय क्षेत्र की ओर ले जाता है, जिससे सोखना बल बढ़ जाता है। उस क्षेत्र में जहां चक लौह सामग्री से संपर्क करता है, लौह सामग्री की अपेक्षाकृत उच्च चुंबकीय पारगम्यता चुंबक के चुंबकीय प्रवाह को इस क्षेत्र में केंद्रित करने का कारण बनती है, जिससे चुंबकीय हुक की सोखने की शक्ति बढ़ जाती है।

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